目前风险仍在,注意大饼假突破风险

目前大饼靠近关键支撑,这里有机会形成4H双底,但是需要注意假突破情况,破位关键支撑继续关注低吸机会,需求区上方多头趋势不变。调整重点关注以太山寨,机会会更好一些
Chart PatternsHarmonic PatternsTrend Analysis

면책사항